1. Renhet
Renheten hos sputtermålet bör vara minst 99,95 procent. Ju högre renhet, desto bättre prestanda har den sputtrade filmen.
2. Densitet
Den relativa tätheten för sputtermålet bör vara mer än 98 procent. Målet med högre densitet kan minska stänk av filmpartiklar under beläggningsprocessen, vilket förbättrar filmens kvalitet.
3. Kornstruktur
Molybden förstoftningsmål är en polykristallin struktur. Under sputtering sputteras målatomerna lätt ut längs den närmast anordnade riktningen av de hexagonala atomerna. För att uppnå den maximala förstoftningshastigheten är det nödvändigt att öka förstoftningshastigheten genom att ändra målets kristallstruktur.
4. Kornstorlek
Kornstorleken kan variera från mikron till millimeter. Sputtringshastigheten för målet med den fina kornen är snabbare än den för målet med grovkornig, och tjockleksfördelningen av den avsatta filmen är också relativt enhetlig för målet med en liten kornstorleksskillnad.
5. Bindning av mål och chassi
Före sputtering ska målet anslutas till det syrefria kopparchassit för att säkerställa att värmeledningsförmågan mellan målet och chassit är bra. Efter bindning ska ultraljudsinspektion utföras för att säkerställa att den icke-bindande arean av de två är mindre än 2 procent, för att uppfylla kraven för högeffektsputtring.
